離子束刻蝕機
產品詳情
v 功能特點
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺,XYZ方向均可調節,可傾斜,可旋轉
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監控儀
ü 可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質譜儀
ü 可增加進樣室,手動/自動上下片基片
(可根據客戶要求定制)
詢盤
v 功能特點
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺,XYZ方向均可調節,可傾斜,可旋轉
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監控儀
ü 可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質譜儀
ü 可增加進樣室,手動/自動上下片基片
(可根據客戶要求定制)