激光直寫光刻機知識點科普
- 2021-12-25-
激光直寫光刻機知識點科普
激光直寫光刻機知識是一種多功能激光光刻機,采用固定連續的375nm或405nm紫外光源,直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結構,直寫面積可達6英寸,較小特征尺寸(寬)可達1微米,適用于掩蔽、半導體、玻璃、晶體、薄膜等多種基片。
激光直寫光刻機知識,提供垂直直寫和掃描兩種方式,保證正軌偏差小于100nm。本實用新型采用電動光學聚焦系統,能迅速、準確地對焦,以適應各種厚度基板的要求,并有可供客戶選擇的晶圓裝、卸料系統,加強清潔度,增加工作效率,提高用戶安全性。
激光直寫光刻機知識特點”
1.十分緊湊的桌面式設計。
2.遮蔽制作與激光直寫。
3.可選擇375nm或405nm的激光光源。
4.適用于各種商業光刻膠。
5.這種反差可以達到1x20。
6.自動聚焦
7.垂直書寫或掃描直寫模式。
8.激光直寫高分辨光刻機的參數。
9.直寫速度:可達500mm/s。
10.位移儀分辨率:100nm。
11.循環精度:100nm。
12.薄片直寫面積:1-6英寸。
13.襯底厚度:250um-10mm。
14.激光點尺寸:1um-50um。
15.標定精度:500nm。
上一條: 蒸銦設備有哪些特征?
下一條: 超高真空磁控濺射鍍膜機知識點介紹